超聲波清洗技術(shù)發(fā)展展望
高頻超聲清洗技術(shù)的進(jìn)展
通常情況下,像幾微米的污染物,采用常規(guī)的超聲波清洗器無法很好地祛除污染物。近年我國已經(jīng)擁有高頻超聲波清洗技術(shù),在清洗過程中,清洗的物質(zhì)不僅僅是氣泡,而是通過高頻壓力波來進(jìn)行去污,去污效果100%。高頻超聲清洗技術(shù)已經(jīng)廣泛地運(yùn)用在大規(guī)模的集成電路芯片上,尤其是硅晶片和陶瓷等方面的特種污染物的清洗。
多頻清洗技術(shù)的進(jìn)展
多頻清洗技術(shù),從本質(zhì)上看,就是在清洗槽中安裝兩種或者三種以上的換能器,通過多只發(fā)生器推動各個頻率上的換能器。在清洗器工作頻率較高的情況下,液體中的空化強(qiáng)度低而空化密度大,而工作頻率低時,這種情況則是完全相反的。我們可以充分利用低頻超聲波強(qiáng)度高的特點(diǎn),對物體表面進(jìn)行清洗。根據(jù)高頻超聲波空化密度高的特點(diǎn),可以利用沖擊波貫穿細(xì)縫和深孔等細(xì)微結(jié)構(gòu),利用多種頻率,有效地克服清洗不徹底的問題。
在某種程度上看,只有深入分析超聲波的清洗原理,并對其進(jìn)行各個領(lǐng)域方面的研究,對當(dāng)前超聲波清洗技術(shù)發(fā)展的情況作出深入闡述,才能更好地推動超聲波技術(shù)的穩(wěn)健發(fā)展。
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